真空镀膜机镀制tin十au si02膜介绍-凯发k8一触即发

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真空镀膜机镀制tin十au si02膜介绍

2021-01-23

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       凯发k8一触即发-凯发天生赢家一触即发官网用复合涂层离子镀方法为黄铜电镀亮镍的手表壳镀制tin十au si02膜,真空镀膜机采用电弧、磁控溅射、中频或射频溅射离子镀多功能真空镀膜机,在真空镀膜室壁上安装6个小平面弧源钛靶镀tin,中心安装柱状磁控溅射黄金靶镀金,壁上安装2个矩形平面磁控溅射si02 靶或si靶镀si02。采用直流偏压电源。



       (1)工件清洗、上架、入炉。方法同前。
       (2)抽真空:本底真空最好达到6.6 x 10-3 pa,烘烤加热温度为150℃左右。
       (3)轰击清洗。方法同前,包括氩轰击和钛轰击两种方法。
       (4)镀膜
       ①沉积钛底层
       真空度:通入高纯氩气,真空度保持在5 x 10-2pa。电弧电流:50~70a,引燃全部弧源,时间为2~3min。偏压:400~500v。
       ②沉积tin膜
       真空度:通入高纯氮气,真空度保持在s x l0-1pa。偏压:100~200vo电弧电流:60~80a。沉积时间:10~20min,膜层厚度0.1~0.5μm。
       ③掺金镀
       真空度:通入高纯氮气,真空度保持在5 x 10-2pa。偏压:100~150v。电弧电流:60a(真空镀膜室上、中、下各点燃1个源)。磁控溅射金靶电压:400—500v,电流3~5a;时间:1min。
       ④镀金
       真空度:通入氩气,真空度保持在3 x 10-1pa。偏压:100~150v。溅射靶电压:400~550v。时间:5-10min。
       ⑤沉积si02
       真空度:通入高纯氩气,真空度8 x 10-2pa或5x 10-1pa。中频(射频)电源功率:200~500w。时间:10~20min。
       (5)冷却:首先关闭中频(或射频)电源,然后关气源,停转架。工件在真空室内冷却到80-100℃时,向真空室充空气,取出工件。该工艺也叫掺金镀或ipg,最后一层si02是透明的,是保持金膜的,它可以延长金膜的磨损时间,根据客户的要求可有可无。
        凯发k8一触即发-凯发天生赢家一触即发官网镀制tin十au si02膜层,和平时镀一些普通的膜层基础步骤类似,但是一些关键的步骤,却是截然不同,因此要想要达到所需的效果,必须要谨慎和细心才可以。
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