汇成真空涂层设备-凯发k8一触即发

hcsh系列

功能性薄膜

涂层设备

functional film coating equipment
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custom functional coating equipment 定制功能性涂层设备

您自己公司的涂层专家:公司涂层生产的全套凯发天生赢家一触即发官网的解决方案

      通过由涂层设备和全方位的服务组成的完整的产品包,汇成确保您轻松进入涂层世界。从这里开始,我们将针对您的需求调整我们的技术以实现两者的最优匹配。

      针对每一个客户,我们都量身订做个性化涂层凯发天生赢家一触即发官网的解决方案,并将其融入您已有的涂层设备中,以方便您利用已有的涂层设备和涂层系统,将整套新的制造工艺与您的需求相结合,确保生产的快速和高效。

      作为您的项目凯发天生赢家一触即发官网的合作伙伴,汇成承担为您制定全套涂层凯发天生赢家一触即发官网的解决方案的责任。我们的客户服务团队将针对项目进度、场地布置和接口管理提供详细的规划,针对不同国家的具体情况提供详尽的澄清,如需要,也可在您与社会公共机构沟通时为您提供相应的支持服务,最终将向您提供一个完工的、可以随时投产的涂层生产厂。

pvd工具镀,初次涉足者的机遇

      通过提高工具表面的硬度而提高耐摩擦能力和耐氧化能力,pvd涂层正得到越来越广泛地应用。pvd(物理气相沉积)技术不仅是对环境无污染,而且能够充分地提高工具的生产能力。pvd行业是近来快速发展的行业,并且也是利润可观的行业。所以,越来越多的商业涂层商,修磨中心和工具制造厂家投资pvd设备。

工具修磨商和制造商

      对于工具修磨商和制造商而言,操作的快速性和灵活性是很重要的,这也是在竞争中胜出竞争对手的一个方法。对于商业镀膜服务商而言,夜间自动生产成为可能。采用自主的pvd镀膜设备,工具制造商能够更好的控制工具产品质量。诸多优点促进了pvd技术的使用。

容易掌握

      对于很多不熟悉pvd的人来说,pvd似乎很复杂。然而,如果能够正确的投资并得到有力的支持,pvd比想象的要容易的多。汇成真空开发的“交钥匙”凯发天生赢家一触即发官网的解决方案,使得pvd镀膜生产很容易地实现。完整的镀膜生产线包括:脱膜(视工件情况而定);前处理;质量控制;清洗&烘干;装夹&目测检验;镀膜;质量控制&厚度测量及后处理(视具体应用)。这些工序都可以来源于同一个供货商的凯发天生赢家一触即发官网的解决方案:汇成真空技术镀层,包括成熟的工艺技术和镀层。


主要模块
arc hipims
创新的apa蒸发器技术(先进的等离子辅助)基于阴极真空电弧,为新的层结构提供了多种开发可能性。
优势:
●靶材使用率高,降低靶材成本
●沉积率高
●磁场可调节
●靶材更换时间短
●等离子体密度高
●完美的涂层结合力
hipims代表高功率脉冲磁控溅射。
优势:
●离化率高(类似于电弧法)
●高功率密度,从 100 到1000 w/cm2
●等离子密度非常高
●可以通过等离子参数设置来调节层结构
●涂层非常光滑
●完美的涂层结合力
●在低基材温度下沉积致密的涂层
其他模块
溅射 氮化
在溅射工艺中,通过高能离子(ar)轰击靶材,分离成原子进而转化成气相。通过结合溅射材料和其他气体,将涂层沉积在基材上。
优势:
●可以溅射多种材料
●多种工艺变量可用
●光滑的涂层
●结合功率刻蚀工艺aegd获得好的涂层结合力
使用氮化模块,可在同一个系统、同一个批次,在pvd和/或pacvd涂层工艺之前进行等离子氮化工艺。由此生成一个硬化层,为后续的pvd/pacvd涂层提供完美的支撑。
优势:
●优化工具和零部件属性
●替代昂贵的基材
●显著延长寿命
●可以应用所有pvd涂层
dlc ta-c
dlc就是类金刚石涂层,指一系列具有超低摩擦系数的非晶碳涂层。使用dlc模块,可以通过使用pvd和/或pacvd工艺来生成不同的dlc涂层。标准dlc涂层包括不含金属或含金属的碳基涂层。
优势:
●完美的涂层结合力
●高耐磨性
●低摩擦系数
●光滑的涂层
ta-c 就是不含氢的四面体非晶碳,指的是一组极硬、低摩擦的非晶碳涂层。使用ta-c模块可以生产不同的ta-c涂层。
优势:
●适用于比dlc更高的温度环境
●非常高的耐磨性
●完美的涂层结合力
●光滑的涂层

product advantage.

产品特点
hcsh系列功能性薄膜涂层设备包括以下关键功能:
  • 定制化

    量身订做个性化涂层凯发天生赢家一触即发官网的解决方案

  • 一致性

    整个腔室中均匀的镀膜沉积速率

  • 简单

    易于操作维护

  • 模块化

    多种工艺技术灵活组合

  • 低温

    低温工艺适合金属和塑料部件

  • 监控

    本地或远程监控镀膜过程

型号 hcsh-400
有效等离子区域 d400×h450mm
最高工作温度 550℃
技术特点 pmaⅱ
efc
aeg
hipims
预处理 arc, aeg, dc, mf, hipims
阴极 d120 / d160 / w125
真空条件 极限真空≤5×10-4pa
工作真空≤5×10-3pa
工艺周期 关门到开门4~5h
tin:2~2.5um
tialn:2~2.5um
tisin:2~3.5um
设备配置 磁悬浮分子泵
脉冲偏压电源
pc智能控制系统
标准转架 d140×4轴
最大装载量 200kg
备注 选用溅射(ubm,rf等)有效高度会适当减小
在线凯发天生赢家一触即发官网的服务支持系统

application cases.

应用案例
型号 hcsh-650
有效等离子区域 d650×h750mm
最高工作温度 550℃
技术特点 pmaⅱ
efc
aeg
hipims
预处理 arc, aeg, dc, mf, hipims
阴极 d120 / d160 / w125
真空条件 极限真空≤5×10-4pa
工作真空≤5×10-3pa
工艺周期 关门到开门5~8h
tin:2~2.5um
tialn:2~2.5um
tisin:2~3.5um
设备配置 磁悬浮分子泵
脉冲偏压电源
pc智能控制系统
标准转架 d140×8轴
最大装载量 500kg
备注 选用溅射(ubm,rf等)有效高度会适当减小
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型号 hcsh-900
有效等离子区域 d900×h1200mm
最高工作温度 550℃
技术特点 pmaⅱ
efc
aeg
hipims
预处理 arc, aeg, dc, mf, hipims
阴极 d120 / d160 / w125
真空条件 极限真空≤5×10-4pa
工作真空≤5×10-3pa
工艺周期 关门到开门7~10h
tin:2~2.5um
tialn:2~2.5um
tisin:2~3.5um
设备配置 磁悬浮分子泵×2
脉冲偏压电源
pc智能控制系统
标准转架 d140×12轴
最大装载量 500kg
备注 选用溅射(ubm,rf等)有效高度会适当减小
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型号 hcsh-1800
有效等离子区域 d900×h1500mm
最高工作温度 550℃
技术特点 pmaⅱ
efc
aeg
hipims
预处理 arc, aeg, dc, mf, hipims
阴极 d120 / d160 / w125
真空条件 极限真空≤5×10-4pa
工作真空≤5×10-3pa
工艺周期 关门到开门7~10h
tin:2~2.5um
tialn:2~2.5um
tisin:2~3.5um
设备配置 磁悬浮分子泵×2
脉冲偏压电源
pc智能控制系统
标准转架 d140×12轴
最大装载量 500kg
备注 选用溅射(ubm,rf等)有效高度会适当减小
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